Дослідники з університетів Ювяскюла (Фінляндія) та Нові-Сад (Сербія) розробили інноваційну лазерну технологію для маніпулювання та обробки 2D-матеріалів. Це крок до створення нового покоління пристроїв, зазначає Interesting Engineering.
Графен, силіцен, чорний фосфор і дихалькогеніди перехідних металів (TMD) — ці матеріали мають високий потенціал для створення широкого спектру пристроїв, включаючи високошвидкісні фотодетектори та сонячні панелі. Проте існуючі методи обробки не завжди ефективно використовують їхні можливості.
Застосування надшвидкої лазерної обробки дозволяє досягти високої точності без значного нагрівання матеріалів. Цей метод здатний модифікувати матеріали на нанорівні, використовуючи ультракороткі лазерні імпульси, які стимулюють процеси на атомному рівні.
Вчені акцентують, що такий підхід може значно розширити можливості для розробки електроніки та фотоніки майбутнього, зокрема за допомогою відшаровування, легування та відновлення матеріалів на молекулярному рівні.
Незважаючи на потенційні переваги, використання надшвидкої лазерної обробки залишається в стадії розробки через високі вимоги до обладнання та потребу в оптимізації процесів.